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삼성전자, 60억달러 투자 최첨단 반도체 생산라인 착공

경기 화성에 EUV라인 구축·7나노이하 초미세공정 기술 리더십 선점 내년 하반기 완공·2020년 본격 가동…향후 시황따라 추가 투자 예정

[FETV(푸드경제TV)=송현섭 기자] 삼성전자가 23일 경기도 화성캠퍼스에서 ‘삼성전자 화성 EUV라인 기공식’을 갖고 차세대 반도체 미세공정 기술 리더십 선점에 나선다. 김기남 삼성전자 DS부문장 사장은 “이번 화성 EUV 신규라인 구축을 통해 화성캠퍼스는 기흥·화성·평택으로 이어지는 반도체 클러스터의 중심이 될 것”이라며 “삼성전자는 산학연과 관련 업계와 다양한 상생협력을 통해 국가경제에 기여할 것”이라고 밝혔다. 따라서 이번 착공한 화성 EUV 라인엔 오는 2020년까지 총 60억달러가 투자되며 내년 하반기에 완공, 시험생산을 거친 뒤 2020년부터 본격 가동에 들어갈 예정이다. 또 신규라인엔 미세공정 한계를 극복하기 위해 EUV(Extreme Ultra Violet : 극자외선)장비가 도입돼 삼성전자가 반도체 미세공정 기술 리더십을 강화하는데 핵심역할을 할 것으로 보인다. 그동안 반도체산업은 공정 미세화를 통해 집적도를 높이고 세밀한 회로를 구현하는 동시에 반도체의 성능과 전력효율 등을 향상시켜왔다. 그러나 최근 한 자릿수 나노 단위까지 미세화가 진행되자 보다 세밀한 회로를 구현하기 위해선 기존 ArF(불화아르곤) 광원보다 파장이 짧은